진공 소결 용광로는 주로 특수 세라믹 (실리콘 카바이드 (SIC), 붕소, 질산 질화물 및 실리콘 질화물-결합 실리콘 카바이드)의 고온 소결에 주로 사용됩니다. 그것들은 특히 실리콘 카바이드 제품의 재결정 소결 공정에 적합합니다. 추가 응용 프로그램에는 어닐링, 밝은 열처리 및 고유 한 지점 금속의 탈기가 포함됩니다.
중간 주파수 유도 가열의 원리에 따라,이 용광로는 진공 또는 수소로 보호 된 대기 하의 유도 코일에 둘러싸인 텅스텐 도가니 내에서 고온을 생성하여 방사선을 통해 열 에너지를 워크 피스로 전달합니다. 그들은 텅스텐, 몰리브덴 및 합금과 같은 내화 된 금속 분말을 형성하고 소결하기 위해 연구 기관과 군사 시설에 광범위하게 고용되어 있습니다. 장비 구성은 수평 진공 소결 용광로와 수직 진공 소결 용광로의 두 가지 구조적 유형으로 속합니다. 설치 현장은 깨끗한 건조 주변 공기, 적절한 환기 및 낮은 미립자 환경을 특징으로하는 진공 위생 표준을 준수해야합니다.

열 분류 :
표준 진공 소결 용광로 : ≤1300 ° C
중간 온도 진공 소결 용광로 : 1300-1600 ° C
고온 진공 소결 용광로 : 1600-2400 ° C
진공 수준 분류 :
낮은 진공 소결 용광로
초고속 진공 소결 용광로
선택 기준은 최적의 성능을위한 작동 온도 범위를 엄격하게 준수하여 처리 된 재료의 특정 요구 사항과 일치해야합니다.
반도체 제조에서, 이들 시스템은 진공 소결, 보호 대기 소결 및 기존의 소결 작업을 실행할 수있는 개별 장치 및 전력 정류기의 소결 공정에 중요하다. 반도체 제조 라인의 고급 장비로서 단일 챔버에서 다중 프로세스 통합 기능을 갖춘 혁신적인 설계 개념을 특징으로합니다. 2 차 응용 분야는 다양한 기술 영역에서 진공 열처리 및 진공 브레이징 프로세스로 확장됩니다.
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